真空镀膜工艺在传感器方面的运用在传感器中，多选用那些电气性质相关于物理量、化学量及其变化来说，极为敏感的半导体资料。此外，其中大多数运用的是半导体的外表、界面的性质，需求尽量增大其面积，且能工业化、低报价制造、因而选用薄膜的状况许多。
真空镀膜设备应用十分广泛，如今在我们的生活中到处可见，是必不可少的一项技术。但是真空镀膜设备在使用一段时间后，表面就会留下灰尘影响真空镀膜的整体效果。
真空镀膜机为什么会越来越慢这种情况有两种可能
1、设备内部由于长时间镀膜导致有些脏东西在加热时放气，所以这种情况需要维护，即把内部屏蔽板拆下喷砂或脱膜，彻底清理。
2、由微小的渗漏，没有发现，尤其是各个传动部位密封，这种情况就是比较难查，如果没有检漏仪，就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替换予以排除。也有人用注射针头注射酒精观察真空计的变化检查，但一般漏的不大时不好判断，至于你说的真空1.9的那个其实也并不高，还有就是漏率是按照你的设备体积以及单位时间的真空下降程度来算的不是按照真空值计算的，比如你的真空泵抽速好，抽气能力强就有可能克服微漏而使真空显示较高的数值。
真空镀膜机详细镀膜方法如下：
1、检查真空镀膜设备各操作控制开关是否在"关"位置。
2、打开总电源开关，真空镀膜设备送电。
3、低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。
4、安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，保证无任何杂质污物。
5、落下钟罩。
6、启动真空镀膜设备抽真空机械泵。
7、开复合真空计电源。
1）左旋钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。
2）低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至110mA时，左旋钮"1"旋转至指向2区段测量位置。
8、当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时，低压阀推入。这时左旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。
9、真空镀膜设备开通冷却水，启动扩散泵，加热40min。
10、低压阀拉出。重复一次⑦动作程序：左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至6.7Pa时，开高压阀。
